校準(zhǔn)標(biāo)樣-分辨率測試靶
高分辨率校準(zhǔn)標(biāo)樣:綜述
Applied Nanotools為分辨率應(yīng)用提供X射線，EUV和可見光顯微鏡的校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)。 這些高質(zhì)量的光學(xué)元件包括各種校準(zhǔn)元件，可在以下SEM圖像中看到：
ANT Design
ANT校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計(jì)用于具有納米級特征的X射線成像系統(tǒng)的分辨率要求。適用于軟X射線和硬X射線機(jī)制以及光學(xué)設(shè)置。
Nested Ls
嵌套的Ls或彎頭允許高分辨率測量，保證間距和效率。在高分辨率標(biāo)準(zhǔn)下低至15 nm半間距。
Siemen star
該圖案允許校準(zhǔn)和準(zhǔn)確比較X射線與其他成像方法的光學(xué)分辨率。
NanoUSAF 1951
Applied Nanotool的定制設(shè)計(jì)NanoUSAF 1951基于USAF 1951設(shè)計(jì)，但具有納米而非微米的特征價(jià)格列表
| Device | Base Price |
| Ultra-High Resolution Soft X-Ray Calibration Standard (70 nm Au) (15 nm half pitch) | USD $5000 |
| Soft X-Ray Calibration Standard (200 nm Au) (20 nm half pitch or better) | USD $4500 |
| Hard X-Ray Calibration Standard (>600 nm Au) (25 nm half-pitch or better) | USD $6000 |
| Features Include: ? Nested L’s ? Siemen star patterns (large and small) ? Varying pitch gratings and meshe ? Nano USAF 1951 | |
| Customization | Extra Fee |
| ? Custom Logo (Max 50 µm 2 area) | $1000 |
| ? Low stress 50 nm silicon nitride membrane | $2000 |
| ? Low stress 100 nm silicon carbide membrane | $2500 |
| ? Fused Silica Substrate (~500 um thick) Chrome metal on glass (positive tone-only) | $2500 |
| Negative polarity (features transparent) ? 30 nm minimum feature size (soft X-ray) ? 50 nm minimum feature size (hard X-ray) | $1250 |
| ? Custom chip sizes | Contact us |
定制膜/基材
校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)在標(biāo)準(zhǔn)的5 mm x 5 mm框架上于堅(jiān)固的低應(yīng)力氮化硅膜上制造。 熔融石英基板可用于具有鉻特征的光學(xué)顯微鏡。
校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)在標(biāo)準(zhǔn)的5 mm x 5 mm框架上于堅(jiān)固的低應(yīng)力氮化硅膜上制造。
熔融石英基板可用于具有鉻特征的光學(xué)顯微鏡定制設(shè)計(jì)
定制設(shè)計(jì)可添加具有高分辨率功能的設(shè)施徽標(biāo)（建議最小元件尺寸為50 nm）。 必須以GDSII，EPS或矢量格式提供圖形以獲得分辨率。如果您需要有關(guān)徽標(biāo)提交的幫助，請與我們聯(lián)系。
高分辨率ANT徽標(biāo)，20納米特征，電鍍至200納米總體布局
注：最終設(shè)計(jì)可能不如圖所示。
