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更新時(shí)間：2024-03-09 17:24:10瀏覽次數(shù)：190次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 紡織服裝機(jī)械網(wǎng)X射線光電子能譜儀-XPS廠家型號(hào)：賽默飛Escalab250Xi技術(shù)參數(shù)：ESCALAB250Xi型電子能譜儀是一臺(tái)多功能高性能的表面分析儀器，以X射線光電子能譜為主要功能，還帶有紫外光電子能譜、反射電子能量損失譜及離子散射譜等附件功能
X射線光電子能譜儀 -XPS
廠家型號(hào)：賽默飛 Escalab250Xi
技術(shù)參數(shù)：
ESCALAB 250Xi型電子能譜儀是一臺(tái)多功能高性能的表面分析儀器，以X射線光電子能譜為主要功能，還帶有紫外光電子能譜、反射電子能量損失譜及離子散射譜等附件功能。
1. X射線源靶：?jiǎn)紊疉l靶、雙陽(yáng)極Al/Mg靶；分析區(qū)域：20μm~900um之間連續(xù)可調(diào)；靈敏度：1*106 cps；成像空間分辨率：小于3μm 。
2. 真空系統(tǒng)：樣品分析室（SAC）：小于5.0×10-10 mbar（壓強(qiáng)）；樣品處理室（STC）：小于7.0×10-9 mbar（壓強(qiáng)）。
3. 離子槍：離子源：Ar ；束流：6μA（）at 3keV 。
4. 光源：He紫外光源。
應(yīng)用范圍：
在金屬、玻璃、高分子、半導(dǎo)體、納米材料、生物材料以及催化等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。
1.鑒別樣品表面的元素種類、化學(xué)價(jià)態(tài)及相對(duì)含量；
2.深度剖析XPS,結(jié)合離子刻蝕技術(shù)對(duì)樣品（如薄膜等）進(jìn)行成分深度分布分析；
3.XPS成像，可對(duì)元素或化學(xué)態(tài)進(jìn)行表面分布分析；
4.利用微聚焦X射線源或電子束可以獲得微區(qū)表面信息。
表征項(xiàng)目：
XPS常規(guī)、價(jià)帶譜VB-XPS、功函數(shù)UPS、元素的俄歇譜表征AES，XPS深度蝕刻、微區(qū)成像。
樣品要求：
1.元素含量不低于1% ；
2.粉末樣品≥10mg ；液體樣≥0.5ml ;塊狀樣：長(zhǎng)寬厚 5*5*3mm 。
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