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Phenom LE臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射電鏡能譜一體機(jī)

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

歷時(shí)6年的研發(fā)，荷蘭飛納公司于2018年推出了首套穩(wěn)定運(yùn)行的臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射（FEG）電鏡能譜一體機(jī)Phenom LE臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射電鏡能譜一體機(jī)，采用肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍（FEG），集背散射電子成像、二次電子成像和能譜分析于一體。飛納臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射電鏡操作簡(jiǎn)單，效率高，無需防震臺(tái)和磁屏蔽，無樓層要求，只需要一張承重200kg的桌子。

詳細(xì)介紹

歷時(shí)6年的研發(fā)，荷蘭飛納公司于2018年推出了首套穩(wěn)定運(yùn)行的臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射（FEG）電鏡能譜一體機(jī)Phenom LE臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射電鏡能譜一體機(jī)，采用肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍（FEG），集背散射電子成像、二次電子成像和能譜分析于一體。飛納臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射電鏡操作簡(jiǎn)單，效率高，無需防震臺(tái)和磁屏蔽，無樓層要求，只需要一張承重200kg的桌子。
飛納臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射電鏡能譜一體機(jī)zhuan利腔室設(shè)計(jì)得到*的探測(cè)角度和工作距離，顯著提高X射線的收集效率。該能譜采用穩(wěn)定堅(jiān)固的超薄Si3N4窗口，透過率在0.26-0.6 KeV低能量范圍，是聚合物窗口的2-3倍，適合輕元素檢測(cè)和低電壓能譜分析。量范圍平均透過率比聚合物窗口高35%，進(jìn)一步提高了能譜儀的X射線計(jì)數(shù)率。
儀器特點(diǎn)：
1、高分辨臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射電鏡：肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源，分辨率優(yōu)于2.5nm@15kV
2、zui快的場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡:內(nèi)置真空鎖，15s抽真空,實(shí)時(shí)導(dǎo)航，全面跟蹤樣品
3、使用zui方便的場(chǎng)發(fā)射電鏡：30分鐘培訓(xùn)即可上手，無需噴金直接觀察不導(dǎo)電樣品
4、場(chǎng)發(fā)射電鏡能譜一體機(jī)：原廠集成能譜儀，B(5)-Am(95)元素探測(cè)
5、升級(jí)功能：飛納臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射電鏡能譜一體機(jī)可選配所有的樣品杯硬件選件，還可選配孔徑、顆粒、纖維統(tǒng)計(jì)分析測(cè)量系統(tǒng)和3D粗糙度重建等軟件選件。
Phenom LE臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射電鏡能譜一體機(jī)主要參數(shù)：

光學(xué)顯微鏡	放大 20-135 倍
電鏡放大	zui高 500,000 倍
探測(cè)器	標(biāo)配背散射電子、二次電子探測(cè)器
燈絲材料	肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源
分辨率	優(yōu)于 2.5 nm@15kV
放置環(huán)境	普通實(shí)驗(yàn)室或辦公室、廠房
加速電壓	2 kV-15 kV 連續(xù)可調(diào)
抽真空時(shí)間	小于 15 秒
探測(cè)元素范圍	B（5）- Am（95）號(hào)元素
能譜探測(cè)器	硅漂移探測(cè)器（SDD）
輸出報(bào)告	DOCX
冷卻方式	無液氮 Peltier 效應(yīng)電制冷
X射線分析模式	15 kV
能量分辨率	＜132eV（Mn Kα）
窗口	Si3N4