武漢頤光科技有限公司
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更新時間：2025-07-22 12:10:14瀏覽次數(shù)：146次
聯(lián)系我時，請告知來自 紡織服裝機械網Mapping系列光譜橢偏儀是全自動高精度Mapping繪制化測量光譜橢偏儀，配置全自動Mapping運動機構，通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測量，快速實現(xiàn)薄膜全基片的膜厚及光學參數(shù)自定義繪制化測量表征。
一、概述
ME-Mapping 光譜橢偏儀是一款可定制化Mapping繪制化測量光譜橢偏儀，配置全自動Mapping測量模塊，通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測量，快速實現(xiàn)薄膜全基片膜厚以及光學參數(shù)自定義繪制化測量表征和分析。
■ 全基片橢偏繪制化測量解決方案；
■ 支持產品設計以及功能模塊定制化，一鍵繪制測量；
■ 配置Mapping模塊，全基片自定義多點定位測量能力；
■ 豐富的數(shù)據庫和幾何結構模型庫，保證強大數(shù)據分析能力。
二、產品特點
■ 采用氘燈和鹵素燈復合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)；
■ 高精度旋轉補償器調制、PCRSA配置，實現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據高速采集；
■ 具備全基片自定義多點自動定位測量能力，提供全面膜厚檢測分析報告；
■ 數(shù)百種材料數(shù)據庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料。
三、產品應用
ME-Mapping廣泛應用OLED，LED，光伏，集成電路等工業(yè)應用中,實現(xiàn)大尺寸全基片膜厚、光學常數(shù)以及膜厚分布快速測量與表征。
可選配件
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| 真空泵 | 透射吸附組件 |
技術參數(shù)
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