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手動(dòng)鍍膜系統(tǒng)

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手動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)適用于本科生教學(xué)，研究生科研訓(xùn)練，也可以應(yīng)用于科研工作

詳細(xì)介紹

手動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)適用于本科生教學(xué)，研究生科研訓(xùn)練，也可以應(yīng)用于科研工作。該款設(shè)備適用于磁控濺射，也可以裝配電子束蒸發(fā)，熱蒸發(fā)源等，用戶可根據(jù)需求來(lái)選擇配備。

技術(shù)參數(shù)：

1 本底真空：10^-7 Torr；

2 單基片設(shè)計(jì)，尺寸可定制；

3 基片可旋轉(zhuǎn)并加熱：300℃/500℃/800℃；

4 濺射：1-3支磁控濺射靶槍，可共濺射；

5 電子束蒸發(fā)：4-6坩堝

6 熱蒸發(fā)：最多6蒸發(fā)源，包括有機(jī)物蒸發(fā)源；

7 可連接手套箱

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