產(chǎn)品概述： 高速顯微光譜測量工作站GP-58C是在科研級(jí)明暗場正置金相顯微鏡XJ-58C基礎(chǔ)上加載高速了顯微光譜儀，是高品質(zhì)和高精度的顯微光譜分析平臺(tái)，具有高信噪比，高靈敏度，能夠快速采集紫外—可見—近紅外全譜段的透射、反射光譜。適用于光子晶體研究、納米材料光學(xué)性能表征、微加工材料光學(xué)性能表征、表面等離子體研究。也可用于薄片試樣的金相、礦相、晶體、硅片、電路基板、FPD等結(jié)構(gòu)分析和研究，以及材料表面特性，如：劃痕、裂紋、噴涂的均勻性等分析研究?？偡糯蟊稊?shù)：50X-500X
◆主要特點(diǎn)：
1、低雜散技術(shù)，高速光譜傳輸技術(shù)，實(shí)現(xiàn)微妙量級(jí)光譜檢測
3、全譜段技術(shù)，最寬譜段覆蓋范圍達(dá)320—1100nm
4、紫外敏化技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了深紫外光譜探測?？臻g分辨率：最小5X5um2
5、采用了的無限遠(yuǎn)光路設(shè)計(jì)，提供了的光學(xué)系統(tǒng)
6、系統(tǒng)配置了電動(dòng)調(diào)焦載物臺(tái)，高清相位模塊、高亮度LED照明
7、采用大視野目鏡和明暗場長距平場物鏡，視場平坦,成像清晰
8、配置了偏光、暗場裝置、可選配微分干涉裝置，拓展了功能
◆典型應(yīng)用：
1、光子晶體研究、納米材料光學(xué)性能表征、微加工材料光學(xué)性能表征、表面等離子體研究
2、電子工業(yè)制造業(yè)對硅片、電路基板、FPD、PCB板、芯片檢驗(yàn)
3、觀察材料表面的某些特性，金屬、礦相內(nèi)部結(jié)構(gòu)組織
規(guī)格參數(shù)： | 序號(hào) | 名 稱 | 參數(shù) |
| 01 | 光學(xué)系統(tǒng) | 無限遠(yuǎn)光學(xué)系統(tǒng)，鏡筒透鏡f=200mm |
| 02 | 觀察鏡筒 | 三目鏡筒（帶有0.3XCCD適配鏡） |
| 03 | 目 鏡 | 1、超寬視場平場目鏡WF10X/26mm2、WF10X/22mm，帶0.1mm十字分劃板 |
| 04 | 超長工作距離平場無限遠(yuǎn)明/暗場物鏡： | 5X/NA0.20(W.D=14.47mm)、10X/NA0.25(W.D=16.0mm)、20X/NA0.40(W.D=10.5mm)、50X/NA0.55(W.D=5.1mm) |
| 05 | 物鏡轉(zhuǎn)換器 | 帶DIC插孔的五孔轉(zhuǎn)換器 |
| 06 | 載物臺(tái) | 精密測量平臺(tái)，工作臺(tái)尺寸：150X150mm 移動(dòng)范圍50mmX50mm， |
| 07 | 濾色片 | 濾色片（綠、藍(lán)、中性） |
| 08 | 調(diào)焦 | 電動(dòng)調(diào)焦 |
| 09 | 光源 | 透射照明： LED燈5W,寬電壓AC85V—260V,亮度連續(xù)可調(diào)
反射照明：科勒照明鹵素?zé)?2V50W,寬電壓AC85V—260V,亮度連續(xù)可調(diào),帶孔徑光闌和視場光闌 |
| 10 | 偏光裝置 | 檢偏鏡可360度旋轉(zhuǎn)。起偏鏡、檢偏鏡均可移出光路 |
| 11 | 光譜模塊 | 高速顯微光譜測量工作站 |
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