Harrick等離子清洗機

Harrick Plasma公司的等離子清洗器是一種小型化、非破壞性的超清洗設備。等離子清洗器采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗器外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時間的清洗就可以使有機污染物被地清洗掉，同時污染物被真空泵抽走，其清洗程度達到分子級。等離子清洗器除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能，等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性。對某些有特殊用途的材料，在超清洗過程中等離子清洗器的輝光放電不但加強了這些材料的粘附性、相容性和浸潤性，并可消毒和殺菌。等離子清洗器廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫(yī)學、微觀流體學等領域。

應用：

* 清洗電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
* 清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
* 移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質。
* 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。
* 清洗半導體元件、印刷線路板。
* 清洗生物芯片、微流控芯片。
* 清洗沉積凝膠的基片。
* 高分子材料表面修飾。
* 牙科材料、人造移植物、科研的消毒和殺菌。
* 改善粘接光學元件、光纖、生物醫(yī)學材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。

特征：

* 緊湊的臺式設備、沒有RF放射、符合CE安全標準。
* 功率為低、中、高三檔可調(diào)。

等離子體表面處理儀的功能：

1.對金屬、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有機污染物 （如石蠟、油污、脫膜劑、蛋白等）進行超清洗。

2.改變某些材料表面的性能。

3.使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化，加強這些材料的粘附性、相容性和浸潤性。

4.清除金屬材料表面的氧化層。

5.對被清洗物進行消毒、殺菌。

等離子體表面處理儀的優(yōu)點：

1.地清除表面有機污染物。

2.清洗快速、操作簡便、使用和維護成本極低。

3.非破壞性、對被清洗物表面光潔度無損害。

4.綠色環(huán)保、不使用化學溶劑、無二次污染。

5.常溫條件下清洗，被清洗物的溫度變化微小。

6.能清洗各種幾何形狀、粗糙程度各異的表面。